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  • 1200°C滑动式三温区CVD系统

1200°C滑动式三温区CVD系统

1.CVD系统配置:1.1200度开启式真空管式炉(可选配多温区)。2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。3.多路质量流量控制系统4.真空系统(可选配中真空或高真空)
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产品简介 / Introduction
产品详细说明:

1200°C滑动式三温区CVD系统

产品用途
此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控
生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。
产品组成:
CVD系统配置:
1.1200度开启式真空管式炉(可选配多温区)。
2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统(可选配中真空或高真空) 
产品特点:
1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2 气路快速连接法兰结构采用本公司独you的知识产权设计,提高操作便捷性。
3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵,防止意外漏气造
成分子泵损坏,延长系统使用寿命。
4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动,等程序完成,炉体按设定的速度滑动,因有滑动限

位功能炉体不会发生碰撞,待样品露出炉体后,通过风冷系统快速降温。


特点展示:

1200°C单多温区管式炉


系统型号 1200℃滑动式三温区CVD系统
系统型号 CVD-12IIIH-3Z/G CVD-12III9H-3Z/G
zui高温度 1200℃
加热区长度 655mm 940mm
恒温区长度 500mm 700mm
温区 三温区 三温区
石英管管径 Φ50/Φ60/Φ80mm Φ80/Φ100/Φ120mm
额定功率 4.8Kw 7.2Kw
额定电压 220V 380V(三相)
滑动距离 507mm 650mm
滑动方式 手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动,当程序完成,炉子按设定的速度滑动)
温度控制 国产程序控温系统50段程序控温;
控制精度 ±1℃
炉管zui高工作温度 <1200℃
气路法兰 本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然you效,该密封法兰的安装只需在第yi次使用设备的时候安装
气体控制方式 质量流量计
气路数量 3路(可根据具体需要选配气路数量)
流量范围 0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定
精度 ±1%F.S
响应时间 ≤4sec
工作温度 5-45℃
工作压力 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)
系统连接方式 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
规格 中真空 高真空
系统真空范围 10Pa-100Pa 1x10-3Pa-1x10-1Pa
真空泵 双级机械泵理论极xian真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw 真空分子泵理论极xian真空度5x10-6Pa抽气速度1600L/S额定电压220V功率2KW
炉体外形尺寸 360×815×555mm
系统外形尺寸 530×1440×750mm 530×1440×750mm(不含高真空)
系统总重量 255Kg 355kg



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