1200°C双温区PECVD系统管式炉

产品专业性：

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

产品组成：
PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（可选配中真空或高真空）

产品特点：

生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。

特点展示：

产品参数：